制程组件


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SOLAYER - Dual Rotatable Magnetron

可旋转磁控管

定制插入式的加工端头包含一套完整的双旋转阴极组件,由磁棒,端块,集成阳极,电源接口等组成。即插即用的插入式解决方案可为您现有的镀膜机提供硬件集成。

SOLAYER - Linear Planar Magnetron

平面磁控管 - 线性

Solayer的线性平面磁控管包括单个和双溅射源,以实现非常高的靶材利用率。 采用无膜设计的智能密封技术,确保不漏水。 Solayer具有专利技术的IN-DRY®解决方案可实现高性能磁体阵列。

SOLAYER - Reactive Process Control PEM

过程监控和控制

加工过程监控系统基于高速宽带光谱仪,提供真空和等离子增强沉积过程的实时现场控制。 通过多通道单元控制反应过程来实现加工过程长期稳定并确保可重复性。

SOLAYER - Magnet bar

磁棒

用于制造可旋转磁控管的高磁场强度磁棒利用了基于Solayer专有的IN-DRY®封装技术,并将磁体放置在不锈钢套管中。 位置可调的可旋转部件可以为不同供应商的端块进行配置。

SOLAYER - Circular Planar Magnetron

平面磁控管 – 圆性

圆形DC磁控管是一款定制溅射源,针对不同的薄膜沉积应用,靶材尺寸可变(从1“开始)。采用共溅射装置,可以通过真空馈通将多个磁棒调节至不同角度。

 

SOLAYER - FLA Module

FLA模块

The FLA模块在连续线或卷绕生产设备中对玻璃/柔性基板进行退火。 带水冷装置的闪光灯和反射器装置可以通过法兰,非常容易的集成在各种气体反应过程环境(如真空,手套箱)中。

SOLAYER - End Block

端块

端块可进行水平或垂直安装。可轻松为所有供应商的标准靶材进行改装。 端块的紧凑设计允许更长的靶材材料长度,在相同的镀膜机宽度内具有更长的均匀性区域。

SOLAYER - Linear Ion Source

离子源

线性和圆形离子源是用于PVD / PECVD的基板清洁,蚀刻和离子处理的理想组件。 我们的两种选项,电感耦合和电容耦合离子源,可在工作压力下产生等离子体,并实现离子中和 

 

SOLAYER - Targets

溅射靶材

Solayer的产品包括高质量的旋转,线性和圆形平面溅射靶。 各种的金属,陶瓷和无机靶材进行烧结并与可选择的背板进行装配。 我们不仅提供标准靶材,还可根据客户要求进行特殊尺寸制造。 

专有的概念和设计
定制组件的设计和开发
紧凑的设计,同时坚固耐用
维护成本最低

适用于所有供应商的靶材

易于集成到现有的镀膜机中

"开发更可靠的组件,提供更好的均匀性,更长的使用寿命和更高的产量。"

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